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期刊文章详细信息

化学镀Ni-Cu-P添加剂的研究    

A Study of the Additives for Electroless Plating Ni-Cu-P

  

文献类型:期刊文章

作  者:田从学[1] 杨东平[1]

机构地区:[1]攀枝花学院生物与化学工程系,四川攀枝花617000

出  处:《电镀与环保》

年  份:2002

卷  号:22

期  号:6

起止页码:12-14

语  种:中文

收录情况:CAS、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD_E2011_2012、JST、ZGKJHX、普通刊

摘  要:通过对化学镀Ni Cu P合金的稳定剂、表面活性剂、光亮剂对镀层性能及镀液稳定性的影响研究 ,得出最佳实验配方。

关 键 词:化学镀 稳定剂 表面活性剂  光亮剂 合金  镍 铜  

分 类 号:TQ153]

参考文献:

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二级参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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二级引证文献:

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同被引文献:

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