文献类型：期刊文章

作　　者：徐硕[1,2] 张轩雄[1] 明帅强[2,3]

XU Shuo;ZHANG Xuanxiong;MING Shuaiqiang(University of Shanghai for Science and Technology,Shanghai 200093,China;Jiaxing Kemin Electronic Equipment Technology Co.,LTD,Jiaxing,Zhejiang 314006 China;Microelectronic Instrument and Equipment Center,Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences,Beijing 100029,China)

机构地区：[1]上海理工大学,上海200093 [2]嘉兴科民电子设备技术有限公司,浙江嘉兴314006 [3]中国科学院微电子研究所仪器设备研发中心,北京100029

出　　处：《计算技术与自动化》

基　　金：重大科学仪器设备开发资助项目(2018YFF01012703)。

年　　份：2023

卷　　号：42

期　　号：4

起止页码：9-13

语　　种：中文

收录情况：ZGKJHX、普通刊

摘　　要：针对当前国内原子层沉积(ALD)控制系统中存在硬件结构兼容性较差、数据交换及数据处理能力较弱等问题。通过分析ALD薄膜生长工艺特点,选定系统硬件配件,确定系统控制结构,设计出基于PC控制的ALD系统。系统采用Beckhoff工业PC作为主控制器,运用EtherCAT现场总线技术进行控制器与I/O模块之间的数据传输与交换,利用TwinCAT控制软件控制整个系统的运行。新系统在现场运行结果表明:该系统功能完善,实时性强,运行稳定,工艺结果能够达到半导体薄膜工艺标准。基于PC控制的ALD系统,对于实现薄膜生长的自动化具有重要意义,为PC控制应用于薄膜生长提供了指导。

关 键 词：原子层沉积 PC控制 ETHERCAT TWINCAT

分 类 号：TB43] TP273]