期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
HE Juan;CHEN Wenqiu;CHEN Wei;YU Yang;FAN Heping(Hubei Institute of Chemistry,Jianghan University,Wuhan 430056,China;HAISO Technology Co.,Ltd.,Wuhan 430074,China)
机构地区:[1]江汉大学湖北省化学研究院,湖北武汉430056 [2]华烁科技股份有限公司,湖北武汉430074
基 金:湖北省科技发展专项(42000023205T000000146);江汉大学研究生科研创新基金项目。
年 份:2023
卷 号:56
期 号:9
起止页码:1-6
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2020、CAS、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊
摘 要:随着微电子工业的高速发展,柔性印制电路板(FPCB)对其层间绝缘材料——聚酰亚胺(PI)薄膜的介电性能提出更高的要求。常规PI薄膜由于其介电常数偏高,无法满足5G高频通信的要求。本文从改变PI的本体结构和引入多孔结构两个方面,综述了近年来低介电常数PI薄膜材料的研究进展,同时对低介电常数PI薄膜材料的发展前景进行了展望。
关 键 词:聚酰亚胺薄膜 低介电常数 结构改性 本征结构 多孔结构
分 类 号:TM215[材料类]
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