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高性能SOI基纳米硅薄膜微压阻式压力传感器的研究
Research on SOI⁃Based Nano⁃Silicon Film Micro⁃Piezoresistive Pressure Sensor with High Performance
文献类型:期刊文章
GAO Ying;JIANG Yanfeng(Department of Electrical Engineering,School of Internet of Things Engineering,Jiangnan University,Wuxi Jiangsu 214122,China)
机构地区:[1]江南大学物联网工程学院电子工程系,江苏无锡214122
基 金:国家自然科学基金面上项目(61774078)。
年 份:2023
卷 号:36
期 号:6
起止页码:839-848
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2020、CAS、CSCD、CSCD2023_2024、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:针对高端领域对高性能微小量程压力传感器的迫切需求,设计并实现了一种应用于电子血压计的高性能SOI基纳米硅薄膜微压阻式压力传感器,并提出了相应的检测电路。根据小挠度弯曲理论设计了传感器方形敏感薄膜结构,确定了纳米硅薄膜压敏电阻的阻值大小和尺寸。采用ANSYS有限元分析(FEA)对所设计的传感器结构进行仿真,根据仿真结果确定了压敏电阻在膜片上的最佳放置位置。基于标准MEMS制造技术,在SOI基纳米硅薄膜上设计并实现了该压力传感器。实测结果表明,室温下,在0~40 kPa微压测量范围内所设计的传感器检测灵敏度可达0.45 mV/(kPa·V),非线性度达到0.108%F.S。在-40℃~125℃的工作温度范围内,温度稳定性好,零点温度漂移系数与灵敏度温度漂移系数分别为0.0047%F.S与0.089%F.S。所设计的压力传感器及其检测电路,在现代医疗、工业控制等领域具有较大的应用潜力。
关 键 词:SOI基 纳米硅薄膜 微压阻式压力传感器 检测电路 有限元分析(FEA)
分 类 号:S951.43]
参考文献:
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引证文献:
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