文献类型：期刊文章

作　　者：姜佳昕[1,2] 王翔[1] 郑高峰[2] 李文望[1]

JIANG Jiaxin;WANG Xiang;ZHENG Gaofeng;LI Wenwang(School of Mechanical and Automotive Engineering,Key Laboratory of Precision Actuation and Transmission of Fujian Province University,Xiamen Key Laboratory of Robot Systems and Digital Manufacturing,Xiamen University of Technology,Xiamen 361024,China;Pen-Tung Sah Institute of Micro-Nano Science and Technology,Xiamen University,Xiamen 361102,China)

机构地区：[1]厦门理工学院机械与汽车工程学院,精密驱动与传动福建省高校重点实验室,厦门市机器人系统与数字制造重点实验室,福建厦门361024 [2]厦门大学萨本栋微米纳米科学技术研究院,福建厦门361102

出　　处：《厦门大学学报（自然科学版）》

基　　金：国家自然科学基金(52275575);福建省中青年教师教育科研项目(JAT220338);福建省科技计划项目(2022H6036,2021J011196);厦门理工学院高层次人才科研启动项目(YKJ22038R)。

年　　份：2023

卷　　号：62

期　　号：4

起止页码：533-538

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2020、CAS、CSCD、CSCD_E2023_2024、JST、MR、RCCSE、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘　　要：氧化锌(ZnO)光电敏感薄膜的精确喷印是集成制造的关键.本文采用近场静电雾化工艺制备ZnO光电敏感薄膜,通过缩短喷头至收集板距离,并缩小薄膜的沉积区域线宽,使纳米颗粒均匀分布在150~250μm线宽内.考察了不同喷印工艺对薄膜结构的影响.喷印次数增加,薄膜内的纳米颗粒分布密度增加,纳米颗粒间形成连续均匀分布,薄膜沉积线宽随施加电压和喷头至收集板距离的增大而增大.测试了不同ZnO薄膜结构对紫外光电探测器性能的影响,当紫外光强为3500 mW/cm 2时,响应光电流可达464μA,为暗电流的266.7倍,表现出了良好的光电探测性能,并具有良好的稳定性和可重复性.

关 键 词：近场静电雾化  紫外光电探测器 ZNO 微纳薄膜  

分 类 号：TP212.1]