文献类型：期刊文章

作　　者：倪康[1] 胡二涛[1] 王敏[1] 王静[2] 李安康[1] 林一波[1] 韦玮[1]

Ni Kang;Hu Ertao;Wang Min;Wang Jing;Li Ankang;Lin Yibo;Wei Wei(College of Electronic and Optical Engineering,Nanjing University of Posts and Telecommunications,Nanjing 210023,Jiangsu,China;Department of Basic Education,Tongda College of Nanjing University of Posts and Telecommunications,Yangzhou 225127,Jiangsu,China)

机构地区：[1]南京邮电大学电子与光学工程学院,江苏南京210023 [2]南京邮电大学通达学院基础教学部,江苏扬州225127

出　　处：《激光与光电子学进展》

基　　金：国家自然科学基金(61605089);江苏省高等学校自然科学研究面上项目(20KJB140006)。

年　　份：2022

卷　　号：59

期　　号：23

起止页码：248-254

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2020、CSCD、CSCD2021_2022、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：结合多靶磁控溅射镀膜方法和自制的一维位移挡板样品台制备了基于TiO_(2)和SiO_(2)的可见光谱区线性渐变滤光片(LVOF)。使用商用分光光度计和一维手动平移样品台对样品进行光谱表征。重点研究了退火温度和时间对LVOF透射光谱的影响。结果表明,LVOF样品的可工作光谱范围为510~700 nm,且样品上不同位置的透射光谱峰值与样品位置呈现出良好的线性关系。在300℃下进行1 h真空退火处理后,样品的透射率得到了显著提升,优于60%。这表明退火处理可显著提升LVOF的性能。

关 键 词：光学器件 线性渐变滤光片  磁控溅射 透射率 退火

分 类 号：O433]