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期刊文章详细信息

工艺参数对等离子增强磁控溅射TiAlN涂层微观结构及性能的影响  ( EI收录)  

Influence of Deposition Parameters on Microstructure and Properties of Plasma-enhanced,Magnetron-sputtered TiAlN Coatings

  

文献类型:期刊文章

作  者:张亚南[1] 周子超[1] 张豪[1] 肖宇琦[1] 邓娜[1] 付彬芸[1] 多树旺[1]

ZHANG Yanan;ZHOU Zichao;ZHANG Hao;XIAO Yuqi;DENG Na;FU Binyun;DUO Shuwang(Jiangxi Key Laboratory of Surface Engineering,School of Materials and Mechanical&Electrical Engineering,Jiangxi Science and Technology Normal University,Nanchang 330013,China)

机构地区:[1]江西科技师范大学材料与机电学院,江西省材料表面工程重点实验室,南昌330013

出  处:《材料导报》

基  金:江西省井冈学者奖励计划;国家自然科学基金(51865015);江西省教育厅科技计划项目(GJJ190607,GJJ180596);江西科技师范大学博士科研启动基金(2020BSQD011)。

年  份:2022

卷  号:36

期  号:24

起止页码:47-52

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2020、CAS、CSCD、CSCD2021_2022、EI、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、UPD、ZGKJHX、核心刊

摘  要:本工作引入正交试验法,以等离子增强磁控溅射TiAlN涂层的润湿性为试验指标,探究靶功率、Ar/N_(2)流量比和基体负偏压对试验指标的影响规律。使用能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和原子力显微镜(AFM)分析涂层的化学成分、晶体结构、微观形貌和表面粗糙度。通过测试接触角表征涂层的润湿性。极差分析结果表明,Al靶功率和Ar/N_(2)流量比对涂层中Al含量的影响最敏感,基体负偏压是决定涂层的晶粒度、粗糙度及接触角的最主要因素。S2工艺制备的涂层具有最佳的疏水性能,接触角为120.25°。S9工艺制备的涂层具有最强的亲水性能,接触角仅为15.15°。研究结果可为工程应用涂层工艺的选择提供一定的参考依据和分析思路。

关 键 词:正交试验法 等离子增强磁控溅射  TIALN涂层 接触角

分 类 号:TG174.444]

参考文献:

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同被引文献:

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