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液相剪切原位剥离蒙脱土纳米片增强高阻氧聚乳酸 ( EI收录)
In-situ Liquid Exfoliation of Montmorillonite Nanosheets in Poly(lactic acid)to Resist Oxygen Permeation
文献类型:期刊文章
XU Huan;KE Lyu;TANG Mengke;SHANG Han;XU Wenxuan;ZHANG Zilin;FU Yanan;HAN Guangdong;CUI Jinsheng;YANG Haoran;GAO Jiefeng;ZHANG Shenghui;HE Xinjian(School of Materials Science and Physics,China University of Mining and Technology,Xuzhou 221116,China;Jining Haoke Technology Co.,Ltd.,Jining 272100,China;Henan Key Laboratory of Surface and Interface Science and Technology,School of Material and Chemical Engineering,Zhengzhou University of Light Industry,Zhengzhou 450002,China;School of Chemistry and Chemical Engineering,Yangzhou University,Yangzhou 225200,China;School of Safety Engineering,China University of Mining and Technology,Xuzhou 221116,China)
机构地区:[1]中国矿业大学材料与物理学院,徐州221116 [2]济宁浩珂科技有限公司,济宁272100 [3]郑州轻工业大学材料与化学工程学院,河南省表界面科学重点实验室,郑州450002 [4]扬州大学化学化工学院,扬州225200 [5]中国矿业大学安全学院,徐州221116
基 金:国家自然科学基金(批准号:52003292,52174222,51803192);江苏省自然科学基金(批准号:BK20200661);中国博士后科学基金(批准号:2020M681763);江苏省博士后科研资助计划(批准号:2021K578C);中央高校基本科研业务费专项资金(批准号:2021QN1115)资助。
年 份:2022
卷 号:43
期 号:11
起止页码:259-267
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2020、CAS、CSCD、CSCD2021_2022、EAPJ、EI、IC、JST、RCCSE、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:提出了液相剪切剥离蒙脱土(MMT)制备寡层纳米片(MNSs)并将其原位引入PLA基体的方法,可经简单的刮刀涂覆法(Blade coating)制备MNSs质量分数为2%,5%和10%的PLA基纳米复合薄膜.该技术路线赋予了MNSs在PLA基体中充分剥离(片层间距可达3.11 nm)和良好取向排列以及较强的界面相互作用.这些结构特征使得纳米复合薄膜的结晶度和力学性能得到大幅提升,同时显著降低了氧气渗透系数.本文不仅提出了可规模化原位剥离二维纳米片的有效方法,更为制备高强高阻隔全降解复合材料及其结构-性能关系研究提供了思路.
关 键 词:聚乳酸 蒙脱土纳米片 液相剪切剥离 结晶形态 力学性能 阻氧性能
分 类 号:O631]
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