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期刊文章详细信息

集成电路光刻机精密运动台控制方法综述    

Ultra-precision motion stage control methods for wafer scanners

  

文献类型:期刊文章

作  者:姜龙滨[1] 刘维珂[2] 杨晓峰[2]

JIANG Longbin;LIU Weike;YANG Xiaofeng(Shanghai Engineering Research Center of Ultra-Precision Motion Control and Measurement,Academy for Engineering and Technology,Fudan University,Shanghai 200433,China;State Key Laboratory of ASIC and System,School of Microelectronics,Fudan University,Shanghai 200433,China)

机构地区:[1]复旦大学工程与应用技术研究院上海市超精密运动控制与检测工程研究中心,上海200433 [2]复旦大学微电子学院专用集成电路与系统国家重点实验室,上海200433

出  处:《长春工业大学学报》

基  金:国家科技重大专项(2017ZX02101007)。

年  份:2022

卷  号:43

期  号:4

起止页码:419-427

语  种:中文

收录情况:AJ、CAS、普通刊

摘  要:集成电路的持续发展推动了信息技术的进步。步进扫描式光刻机是集成电路装备中技术难度最高、价格最昂贵的关键设备。其中,精密运动台是光刻机最为核心的子系统之一,高速、高加速和高精度的要求对控制方法的研究和应用提出了挑战。文中对集成电路光刻机中精密运动台的控制方法进行了综述。首先,介绍了面向光刻机工件台或掩模台单一运动台的前馈反馈复合控制方法;其次,介绍了工件台和掩模台的同步控制方法;最后,介绍了运动台的主动减振控制方法。

关 键 词:光刻机 迭代学习控制 扰动观测器 同步控制 主动减振控制  

分 类 号:TN305]

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同被引文献:

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