期刊文章详细信息
基于ANSYS的原子层沉积加热系统温度均匀性分析
Temperature Uniformity Analysis of Atomic Layer Deposition Heating System Based on ANSYS
文献类型:期刊文章
SUN Yanqing;ZHOU Linzhen;FENG Jiaheng;WU Youde(School of Mechanical Engineering,Yancheng Institute of Technology,Yancheng Jiangsu 224002,China;Jiaxing Kemin Electronic Equipment Technology Co.,Ltd.,Jiaxing Zhejiang 314000,China)
机构地区:[1]盐城工学院机械工程学院,江苏盐城224002 [2]嘉兴科民电子设备技术有限公司,浙江嘉兴314000
年 份:2022
卷 号:35
期 号:2
起止页码:38-42
语 种:中文
收录情况:CAS、普通刊
摘 要:为了研究提高原子层沉积加热系统温度均匀性的有效解决方案,采用ANSYS仿真软件建立原子层沉积反应室模型。利用控制变量法,以提高衬底的温度均匀性为目标,观察气体入口流量、电阻片与加热盘的距离和加热温度对反应室热场的影响。随着气体流量的增加,底部流动边界层趋于稳定,加热盘的温度场分布更加均匀;随着加热盘与电阻片之间距离的增大,从电阻片到达石墨盘下表面的热量减少,石墨盘表面最高温度和温差都随之减小,温度均匀性得到提高;随着加热温度的升高,加热盘表面温度增高,因此,可以通过分区加热来提高加热盘表面温度均匀性。
关 键 词:原子层沉积 反应室 温度均匀性 仿真分析
分 类 号:TN305]
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