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期刊文章详细信息

基于ANSYS的原子层沉积加热系统温度均匀性分析    

Temperature Uniformity Analysis of Atomic Layer Deposition Heating System Based on ANSYS

  

文献类型:期刊文章

作  者:孙彦庆[1] 周临震[1] 冯嘉恒[2] 吴有德[1]

SUN Yanqing;ZHOU Linzhen;FENG Jiaheng;WU Youde(School of Mechanical Engineering,Yancheng Institute of Technology,Yancheng Jiangsu 224002,China;Jiaxing Kemin Electronic Equipment Technology Co.,Ltd.,Jiaxing Zhejiang 314000,China)

机构地区:[1]盐城工学院机械工程学院,江苏盐城224002 [2]嘉兴科民电子设备技术有限公司,浙江嘉兴314000

出  处:《盐城工学院学报(自然科学版)》

年  份:2022

卷  号:35

期  号:2

起止页码:38-42

语  种:中文

收录情况:CAS、普通刊

摘  要:为了研究提高原子层沉积加热系统温度均匀性的有效解决方案,采用ANSYS仿真软件建立原子层沉积反应室模型。利用控制变量法,以提高衬底的温度均匀性为目标,观察气体入口流量、电阻片与加热盘的距离和加热温度对反应室热场的影响。随着气体流量的增加,底部流动边界层趋于稳定,加热盘的温度场分布更加均匀;随着加热盘与电阻片之间距离的增大,从电阻片到达石墨盘下表面的热量减少,石墨盘表面最高温度和温差都随之减小,温度均匀性得到提高;随着加热温度的升高,加热盘表面温度增高,因此,可以通过分区加热来提高加热盘表面温度均匀性。

关 键 词:原子层沉积 反应室  温度均匀性 仿真分析  

分 类 号:TN305]

参考文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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