文献类型：期刊文章

作　　者：卢永[1,2] 冯向文[2] 汪林[2] 张孝林[1] 张炜铭[1,2] 吕振华[2] 贾如雪[1] 黄如全[2]

LU Yong;FENG Xiangwen;WANG Lin;ZHANG Xiaolin;ZHANG Weiming;LÜZhenhua;JIA Ruxue;HUANG Ruquan(State Key Laboratory of Pollution Control and Resource Reuse,School of the Environment,Nanjing University,Nanjing 210023,China;Jiangsu NJU Environmental Technology Co.,Ltd.,State Environmental Protection Engineering Center for Organic Chemical Industrial Wastewater Disposal and Resource Reuse,Nanjing 210046,China)

机构地区：[1]南京大学环境学院,污染控制与资源化研究国家重点实验室,江苏南京210023 [2]江苏南大环保科技有限公司,国家环境保护有机化工废水处理与资源化工程技术中心,江苏南京210046

出　　处：《工业水处理》

基　　金：国家重点研发计划“纳米科技”重点专项(2016YFA0203100);污染控制与资源化研究国家重点实验室开放基金项目(PCRRF19008)。

年　　份：2022

卷　　号：42

期　　号：7

起止页码：75-79

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2020、CAS、CSCD、CSCD_E2021_2022、JST、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：半导体生产过程中会产生大量含氟废水,传统双钙法除氟工艺对氟的去除程度有限,不能满足日益严格的废水排放标准。为满足出水低于1.5 mg/L的深度除氟要求,对化学沉淀-纳米材料吸附组合工艺深度处理半导体企业含氟废水进行了系统性研究。通过控制变量实验考察了不同初始pH、药剂量、氟浓度、上柱液pH、共存离子对除氟效果的影响,并进行中试扩大实验研究了吸附材料的再生条件以及稳定性能。结果表明,综合考虑出水氟离子浓度与药剂成本等因素,在调节反应初始pH为8.5,并投加自制铝盐为主的沉淀剂160 mg/L条件下,出水氟离子可降到3 mg/L以下。然后过滤并调节上柱液pH至3.0进行纳米材料吸附除氟,最终出水氟离子可稳定达到1.5 mg/L以下,符合《地表水环境质量标准》(GB 3838—2002)Ⅳ类标准。最后,选择质量分数高于4%的NaOH溶液作脱附剂,可实现吸附材料的再生。

关 键 词：含氟废水 深度处理 化学沉淀 纳米材料吸附  

分 类 号：X703.1]