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期刊文章详细信息

X-切薄膜铌酸锂高效率光栅耦合器的设计    

Design of High Efficiency Grating Coupler on X-Cut Thin-Film Lithium Niobate

  

文献类型:期刊文章

作  者:罗砚浓[1] 蔡鑫伦[2]

LUO Yannong;CAI Xinlun(Laboratory of Biomedical Photonics&Engin.,Lifte Science Institute,Guangxi Medical University,Nanning 530021,CHN;State Key Laboratory of Optoelectronic Materials and Technologies.School of Elctronics and Information Technology,Sun Yat-sen University,Guangzhou 510275,CHN)

机构地区:[1]广西医科大学生命科学研究院生物医学光子学研究中心,南宁530021 [2]中山大学电子与信息工程学院光电材料与技术国家重点实验室,广州510006

出  处:《半导体光电》

基  金:国家自然科学基金项目(11906041,11690031,11761131001);国家重点研发项目(2019YFB1803900,2019YFA0705000);广东省珠江人才计划项目(2017BT01X121);广东省重点研发项目(2019B121204003,2018B030329001)。

年  份:2022

卷  号:43

期  号:2

起止页码:280-284

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2020、CAS、IC、JST、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:基于X-切绝缘体上薄膜铌酸锂平台,提出并设计了一种高耦合效率的切趾一维光栅耦合器。采用非晶硅覆盖层材料,结合亚波长光子晶体等效方案和遗传算法增强光栅耦合效率。在中心波长1550 nm处,光栅的峰值耦合效率为-1.08 dB,通过引入底部金属反射镜可进一步提高至-0.53 dB,其1 dB带宽约为61 nm。

关 键 词:铌酸锂 光栅耦合器 非晶硅 高耦合效率  

分 类 号:O436]

参考文献:

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二级参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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二级引证文献:

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同被引文献:

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