文献类型：期刊文章

作　　者：周子逸[1,2] 董贤子[1] 郑美玲[1]

Zhou Ziyi;Dong Xianzi;Zheng Meiling(CAS Key Laboratory of Bio-Inspired Materials and Interfacial Science,Technical Institute of Physics and Chemistry,Chinese Academy of Sciences,Beijing 100190,China;School of Future Technology,University of Chinese Academy of Sciences,Beijing 101407,China)

机构地区：[1]中国科学院理化技术研究所仿生智能界面科学中心,北京100190 [2]中国科学院大学未来技术学院,北京101407

出　　处：《激光与光电子学进展》

基　　金：国家自然科学基金(61975213,61475164,51901234);国家重点研发计划项目(2016YFA0200501);中奥国际合作项目(GJHZ1720);中国科学院国际伙伴计划项目(GJHZ2021130)。

年　　份：2022

卷　　号：59

期　　号：9

起止页码：493-507

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2020、CSCD、CSCD2021_2022、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：光刻技术在前沿科学与国计民生等领域发挥着重要作用。随着曝光光源、数字微镜器件(DMD)、投影镜头等光学元件的升级及计算机控制技术的飞速发展,基于DMD的无掩模光刻技术有可能在不久的将来与目前成熟的有掩模光刻技术齐头并进,并在特定应用领域中不可或缺。详细介绍了基于DMD的面投影光刻的曝光原理、系统组成和发展进程,重点介绍了提高面投影光刻分辨率的方法,以及突破光学衍射极限制备超细微结构的相关工作。同时阐述了基于DMD的面投影无掩模曝光技术在制备光子学器件、生物学支架、仿生结构等器件中的独特优势,特别是引入超快激光后其在新型加工领域所展现出的应用潜力。

关 键 词：光刻 数字微镜器件 分辨率 超快激光 投影曝光  

分 类 号：O436]