文献类型：期刊文章

作　　者：姜龙滨[1] 丁润泽[1] 丁晨阳[1] 杨晓峰[2] 徐云浪[2]

Jiang Longbin;Ding Runze;Ding Chenyang;Yang Xiaofeng;Xu Yunlang(Shanghai Engineering Research Center of Ultra-Precision Motion Control and Measurement,Academy for Engineering and Technology,Fudan University,Shanghai 200433,China;State Key Laboratory of ASIC and System,School of Microelectronics,Fudan University,Shanghai 200433,China)

机构地区：[1]复旦大学工程与应用技术研究院上海市超精密运动控制与检测工程研究中心,上海200433 [2]复旦大学微电子学院专用集成电路与系统国家重点实验室,上海200433

出　　处：《激光与光电子学进展》

基　　金：国家重点研发计划(2021YFA1200600);中国博士后科学基金(2021TQ0070);复旦大学专用集成电路与系统国家重点实验室开放基金(2021KF007)。

年　　份：2022

卷　　号：59

期　　号：9

起止页码：35-47

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2020、CSCD、CSCD2021_2022、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：光刻机是支撑集成电路芯片制程不断减小的关键设备,而高性能的光刻机需要高加速度和高精度的运动台作为支撑。为了达到光刻机的各项工作指标,高性能的运动台控制方法必不可少。本文针对光刻机运动台的主流控制方法进行了梳理和介绍,首先介绍了运动台的工作原理及基本控制架构,然后从前馈控制、反馈控制、冗余驱动/冗余测量等方面对运动台控制方法进行具体介绍,旨在为光刻机运动台控制方法的进一步发展提供参考。

关 键 词：光刻机 运动台  前馈控制 反馈控制

分 类 号：TN305]