文献类型：期刊文章

作　　者：周国尊[1] 何敏菲[1] 杨臻垚[2] 曹春[2] 谢飞[3] 曹耀宇[3] 匡翠方[1,2] 刘旭[1,2]

Zhou Guozun;He Minfei;Yang Zhenyao;Cao Chun;Xie Fei;Cao Yaoyu;Kuang Cuifang;Liu Xu(State Key Laboratory of Modern Optical Instrumentation,College of Optical Science and Engineering,Zhejiang University,Hangzhou,Zhejiang 310027,China;Research Center for Smart Sensing,Zhejiang Laboratory,Hangzhou,Zhejiang 310023,China;Guangdong Provincial Key Laboratory of Optical Fiber Sensing and Communications,Institute of Photonics Technology,Jinan University,Guangzhou,Guangdong 510000,China)

机构地区：[1]浙江大学光电科学与工程学院现代光学仪器国家重点实验室,浙江杭州310027 [2]之江实验室超级感知研究中心,浙江杭州310023 [3]暨南大学光子技术研究院广东省光纤传感与通信技术重点实验室,广东广州510000

出　　处：《中国激光》

基　　金：浙江省自然科学基金重大项目(LD21F050002);之江实验室重大科研项目(2020MC0AE01)。

年　　份：2022

卷　　号：49

期　　号：2

起止页码：1-11

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2020、CAS、CSCD、CSCD2021_2022、EAPJ、EI、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：利用边缘光抑制技术,设计并研制了一套双光束激光三维直写光刻系统。该系统含有高速扫描振镜和三维纳米压电平台两组扫描机构,可以根据不同加工需求完成多种扫描模式下的微纳结构制造。分析了光刻光束中激发光与抑制光的能量变化对加工精度的影响,通过对光刻光束能量的精确控制,实现了基板表面最小线宽为64 nm的均匀线条和线宽为30 nm的悬浮线的稳定加工,加工结构的线宽变化符合理论预期。该系统在进行实用器件加工时,最高加工产率可达到0.6 mm;/min。使用该系统加工制造了多种微纳结构,证实了其具备加工大深宽比周期结构、复杂曲线结构和不规则三维结构的能力。

关 键 词：激光技术 光学制造 受激发射损耗  激光直写 微纳光学器件  

分 类 号：O439]