文献类型：期刊文章

作　　者：杨欣蕾[1] 弥谦[1] 龚立榕[1] 周凤琳[1]

YANG Xinlei;MI Qian;GONG Lirong;ZHOU Fenglin(Shaanxi Optical Advanced Manufacturing Engineering Technology Research Center, School of Optoelectronic Engineering, Xi’an Technological University, Xi’an 710021, China)

机构地区：[1]西安工业大学光电工程学院,陕西省光学先进制造工程技术研究中心,西安710021

出　　处：《人工晶体学报》

基　　金：开放基金(ZSKJ202002)。

年　　份：2021

卷　　号：50

期　　号：9

起止页码：1765-1773

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2020、CAS、IC、JST、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：为探究一种可实现向心溅射的圆筒式柱面磁控阴极靶,需要对靶装置内的磁场分布进行研究,进一步讨论靶结构参数对其磁场分布的影响规律。本文根据磁控靶的结构与工作原理,利用COMSOL Multiphysics有限元分析软件中AC/DC接口,对靶进行三维模型构建、划分网格和仿真计算。通过改变靶内磁体形状尺寸、磁轭形状以及结构排布,对靶面磁场的分布进行规律探究。最终确定新型圆筒式柱面磁控溅射阴极靶内的磁场结构参数,结果表明结构靶面磁场分布均匀且大小满足溅射要求的磁感应强度(20~50 mT),平行靶面均匀磁场区域达35%~40%左右。通过这类靶磁场结构的研究,为设计优化磁控阴极靶提供依据。

关 键 词：磁控溅射  磁场分布 圆柱靶  有限元分析  COMSOL  结构参数 真空镀膜 设计与仿真  

分 类 号：TB43]