期刊文章详细信息
基于光刻机全球产业发展状况分析我国光刻机突破路径
Analysis on Breakthrough Path of Lithography in China Based on Development of Lithography Industry in the World
文献类型：期刊文章
GUO Qiantong;LI Bo(China Electronic Information Industry Group Co.,Ltd.,Beijing 100190,China)
机构地区：[1]中国电子信息产业集团有限公司,北京100190
年 份：2021
卷 号：38
期 号：9
起止页码：1-3
语 种：中文
收录情况：普通刊
摘 要：阐述光刻机产业发展历史和当前产业现状,分析阿斯麦(ASML)、尼康(NIKON)、佳能(CANON)等企业的成败原因,为我国光刻机产业发展寻求突破路径提供新思路。
关 键 词：集成电路 光刻机 产业布局 发展思路
分 类 号：TN405]
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