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三价铬基转化膜生长动力学研究现状及进展
Research Status and Progress on Growth Kinetics of Trivalent Chromium-based Conversion Film
文献类型:期刊文章
WANG Laibin;LIU Xiahe;WANG Mei;GAO Junjie(Department of Resource and Environment,Institute of Metallurgical Resources and Environmental Engineering,School of Metallurgy,Northeastern University,Shenyang 110819,China)
机构地区:[1]东北大学冶金学院资源与环境系资源与环境工程研究所,沈阳110819
基 金:国家自然科学基金(51701038);中央高校基本科研业务费专项(N162503002)。
年 份:2021
卷 号:41
期 号:5
起止页码:571-578
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2020、CAS、CSCD、CSCD2021_2022、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:金属或合金表面三价铬基转化(TCC)膜毒性低,但稳定性较差且容易开裂。如何形成高品质的TCC膜,已成为提高材料耐蚀及稳定性的关键问题。本文通过调研国内外有关TCC膜研究现状,综述了TCC膜的生长过程、电化学特性、微观结构及物相等性能变化。结合氧化物热力学理论及膜层生长动力学模型,分析了TCC膜稳定性及发展机理,总结了目前TCC膜层生长研究中存在的问题,并对其未来发展趋势进行了展望。
关 键 词:三价铬 氧化膜 动力学 电化学 微观结构
分 类 号:TG172]
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