文献类型：期刊文章

作　　者：武雄骁[1] 王红军[1] 魏晨[1] 田爱玲[1] 刘丙才[1] 朱学亮[1] 刘卫国[1]

Wu Xiongxiao;Wang Hongjun;Wei Chen;Tian Ailing;Liu Bingcai;Zhu Xueliang;Liu Weiguo(Shaanxi Province Key Laboratory of Membrane Technology and Optical Test,School of Optoelectronic Engineering,Xi’an Technological University,Xi’an,Shaanxi 710021,China)

机构地区：[1]西安工业大学光电工程学院陕西省薄膜技术与光学检测重点实验室,陕西西安710021

出　　处：《激光与光电子学进展》

基　　金：陕西省自然科学基础研究计划(2019JM-373)。

年　　份：2021

卷　　号：58

期　　号：11

起止页码：183-189

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2020、CSCD、CSCD2021_2022、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：为了实现对光学元件表面不同尺寸尤其是微小尺寸缺陷的精确检测,以典型的光学元件表面缺陷即麻点和划痕为研究目标,提出了一种基于散射场分布拟合逼近的表面缺陷检测方法。实验结果表明,本方法可以对光学元件表面的微小尺寸缺陷进行快速有效的检测,且拟合计算结果与样件原始尺寸的相对误差基本小于5%,验证了本方法的有效性。此外,本方法还解决了现有测量方法精度低、结构复杂的问题,为精确检测光学元件表面的微小尺寸缺陷提供了新思路。

关 键 词：测量与计量  缺陷检测  散射 表面缺陷  精密光学元件

分 类 号：TH741]