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期刊文章详细信息

基于红外热像仪的光学薄膜吸收测试方法    

Measurement of absorption loss of optical thin-film by infrared thermal imaging

  

文献类型:期刊文章

作  者:荆建行[1,2] 孔明东[2] 王强[2] 郭春[2]

Jing Jianhang;Kong Mingdong;Wang Qiang;Guo Chun(School of Optoelectronics,University of Chinese Academy of Sciences,Beijing 100049,China;Optical Thin Film Technology Laboratory,Institute of Optics and Electronics,Chinese Academy of Sciences,Chengdu,Sichuan 610209,China)

机构地区:[1]中国科学院大学光电学院,北京100049 [2]中国科学院光电技术研究所薄膜光学技术研究室,四川成都610209

出  处:《光电工程》

基  金:国家自然科学基金资助项目(61805247);中国科学院青年创新促进会资助项目;四川省科技计划项目。

年  份:2021

卷  号:48

期  号:6

起止页码:84-90

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2020、CAS、CSCD、CSCD2021_2022、IC、JST、PROQUEST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:光学薄膜在制备和使用过程中会因缺陷和污染等产生吸收中心,当薄膜受激光辐照后,吸收中心吸收光能会产生热信号,根据热信号可以测量光学薄膜的光学吸收损耗。本文提出基于红外热像仪测量薄膜光学吸收损耗的方法,在测试中加入参考样品可以减少环境温度变化和热像仪噪声对于温度测试结果的影响,对测量过程温度场取一定面积进行平均减少了激光指向波动和光斑分布不理想导致的有限元仿真计算误差。使用本方法测试了小尺寸45°的高反膜吸收损耗,测试得到吸收损耗为7.60 ppm,且测试了同批次大尺寸光学薄膜样品吸收损耗的空间分布情况。使用本方法测量的光学薄膜吸收率和激光量热测试结果一致,不需要长时间的恒温和严格环境温度控制,且测试样品尺寸不受限制。

关 键 词:薄膜光学 吸收损耗 红外热像仪 有限元 吸收测量  

分 类 号:O436.2]

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同被引文献:

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