登录    注册    忘记密码

期刊文章详细信息

图案化In_(2)O_(3):Sn薄膜制备及显影剂对图案制备的影响研究  ( EI收录)  

Preparation of patterned In_(2)O_(3):Sn films and the effect of developer on the patterns

  

文献类型:期刊文章

作  者:任洋[1,2] 贺海燕[2] 赵高扬[2] 王允威[2,3]

REN Yang;HE Haiyan;ZHAO Gaoyang;WANG Yunwei(Advanced Materials Analysis and Test Center, Xian University of Technology, Xi'an 710048, China;School of Materials Science and Engineering, Xian University of Technology, Xian 710048, China;School of Biological and Chemical Engineering, Panzhihua University, Panzhihua 617000, China)

机构地区:[1]西安理工大学现代分析测试中心,西安710048 [2]西安理工大学材料科学与工程学院,西安710048 [3]攀枝花学院生物与化学工程学院钒钛资源综合利用四川省重点实验室,四川攀枝花617000

出  处:《功能材料》

基  金:国家自然科学基金资助项目(51802260);陕西省自然科学基础研究计划资助项目(2019JQ-321);四川省重点实验室资金资助项目(2019FTSZ05)。

年  份:2021

卷  号:52

期  号:3

起止页码:3092-3097

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2020、CAS、CSCD、CSCD2021_2022、EI、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:功能薄膜的图案化是微电子加工中不可或缺的工序,目前已经成为制约我国微型化集成电路发展的关键因素。本研究以制备低成本且高质量的图案化In_(2)O_(3):Sn薄膜为目的,摒弃常规且工艺复杂的干法刻蚀或湿法刻蚀的研究思路,转而向一种化学修饰的溶胶凝胶技术探索。利用化学修饰后的纳米级溶质颗粒的紫外感光特性,以及曝光前后溶质颗粒在有机溶剂中发生的溶解度变化,通过溶胶凝胶工艺成膜,后经曝光、显影、热处理等工序,形成图案化的In_(2)O_(3):Sn薄膜。重点探索了显影剂配方对薄膜图案制备的影响规律。该方法去除了包含光刻胶制备、剥离以及刻蚀等一系列复杂工序,薄膜图案化制备简单且质量较高,是一种新的值得继续探究并广泛推广的薄膜图案化技术。

关 键 词:ITO薄膜 图案化 溶胶-凝胶法 显影剂

分 类 号:TB332[材料类]

参考文献:

正在载入数据...

二级参考文献:

正在载入数据...

耦合文献:

正在载入数据...

引证文献:

正在载入数据...

二级引证文献:

正在载入数据...

同被引文献:

正在载入数据...

版权所有©重庆科技学院 重庆维普资讯有限公司 渝B2-20050021-7
 渝公网安备 50019002500408号 违法和不良信息举报中心