期刊文章详细信息
硅基Ⅳ族材料外延生长及其发光和探测器件研究进展
Research progress in the epitaxial growth of silicon-based groupⅣmaterials,and their light emitters and photodetectors
文献类型:期刊文章
ZHANG Lu;KE ShaoYing;WANG JianYuan;HUANG Wei;CHEN SongYan;LI Cheng(Department of Physics,College of Physical Science and Technology,Xiamen University,Xiamen 361005,China)
机构地区:[1]厦门大学物理科学与技术学院物理学系,厦门361005
基 金:国家自然科学基金(编号:61474094,61474081);国家重点研发计划(编号:2018YFB2200103,2013CB632103)资助项目。
年 份:2021
卷 号:51
期 号:3
起止页码:41-53
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2020、CSCD、CSCD2021_2022、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:硅基光电集成回路是信息时代最具影响力的核心技术之一,由硅基光源、光电探测器、光调制器等模块组成.硅材料是微电子集成电路的基石,然而在光电集成方面却遇到了瓶颈.首先,由于硅是间接带隙材料,其发光效率极低,因此难以应用于硅基高效光源的研制.其次,硅在近红外通讯波段吸收系数很低,因此在近红外光电探测器的应用中具有较大的局限性.然而,研究者发现,通过能带工程将硅与其他Ⅳ族材料相融合不仅可以有效提高直接带高效发光效率,同时能使材料在近红外波段具有较高的吸收系数.因此,以Ⅳ族材料为基础,与硅工艺兼容的硅基光电集成回路引起了研究者的广泛关注.本文综述了课题组在硅基材料外延生长及其发光和探测器件方面的研究进展.介绍了硅基Ⅳ族材料Ge,SiGe/Ge异质结和量子阱材料的外延生长技术,以及硅基GeSn量子点发光材料的制备新方法.基于硅基Ⅳ族异质结构材料,发展调制金属与半导体接触势垒高度新机理,研制了多种结构的光电探测器.设计并制备了与互补金属氧化物半导体(Complementary Metal Oxide Semiconductor,CMOS)结构兼容的横向异质结以及双有源区垂直共振腔型两种结构硅基电致发光器件,有效提升器件的发光性能,并观察到应变锗发光增益现象.
关 键 词:硅基光电集成 Ⅳ族材料 发光器件 光电探测器
分 类 号:TN304] TN36TN383.1
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