文献类型：期刊文章

作　　者：钟虓䶮[1,2,3] 李卓[1,2,3,4]

Zhong Xiao-Yan;Li Zhuo(Department of Materials Science and Engineering,City University of Hong Kong,Kowloon 999077,China;City University of Hong Kong Shenzhen Futian Research Institute,Shenzhen 518048,China;Nanomanufacturing Laboratory(NML),City University of Hong Kong Shenzhen Research Institute,Shenzhen 518057,China;State Key Laboratory of New Ceramics and Fine Processing,Key Laboratory of Advanced Materials(MOE),National Center for Electron Microscopy in Beijing,School of Materials Science and Engineering,Tsinghua University,Beijing 100084,China)

机构地区：[1]香港城市大学材料科学与工程系,九龙999077 [2]香港城市大学深圳福田研究院,深圳518048 [3]香港城市大学深圳研究院,纳米制造实验室(NML),深圳518057 [4]清华大学材料学院,北京电子显微镜中心,先进材料教育部重点实验室,新型陶瓷和先进工艺国家重点实验室,北京100084

出　　处：《物理学报》

基　　金：国家自然科学基金(批准号:51822105,52011530124,11834009);国家重点研发计划(批准号:2016YFB0700402);中德科学中心中德合作交流项目(批准号:M-0265);深圳研究计划(批准号:HZQB-KCZYB-2020031);香港城市大学(批准号:9610484,9680291);香港城市大学深圳研究院、欧盟-香港研究与创新合作资助机制(批准号:E-CityU101/20);德国-香港联合研究计划(DAAD-RGC)(批准号:G-CityU102/20);欧盟“地平线2020研究和创新计划”(批准号:856538,“3D MAGiC”)资助的课题.

年　　份：2021

卷　　号：70

期　　号：6

起止页码：199-216

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2020、CAS、CSCD、CSCD2021_2022、EI、IC、JST、RCCSE、SCIE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘　　要：原子表征与操控是实现原子制造必须突破的物理瓶颈之一.像差校正电子显微学方法因其优异的空间分辨率,为实现原子精细制造提供了有力的表征手段.因此,利用电子显微学手段,在原子尺度对原子制造的材料及器件进行三维结构和性能的协同表征,对于深入理解原子水平材料操控的物理机理具有非常重要的意义.纳米团簇及纳米颗粒是原子制造材料与器件研究的主要对象之一,具有丰富的物理化学性质和较高的可操纵性.本文探讨纳米团簇/颗粒结构三维定量表征、使役条件下纳米团簇/颗粒结构演变定量表征、纳米颗粒/晶粒结构-成分-磁性协同定量表征等诸多方法与实例,阐明了电子显微学表征手段的突破和发展为实现精细控制的原子制造材料提供了坚实基础.

关 键 词：原子制造  透射电子显微学与谱学  三维结构定量表征  纳米团簇

分 类 号：O469]