文献类型：期刊文章

作　　者：杨胜[1,2] 夏洋[1,2,3] 兰丽丽[3] 陶晓俊[3] 冯嘉恒[3] 明帅强[1,2] 卢维尔[1,2] 屈芙蓉[1] 刘涛[1,2]

Yang Sheng;Xia Yang;Lan Lili;Tao Xiaojun;Feng Jiaheng;Ming Shuaiqiang;Lu Weier;Qu Furong;Liu Tao(Microelectronic Instrument and Equipment Center,Institute of Microelectronics of Chinese Academy of Sciences,Beijing 100029,China;University of Chinese Academy of Sciences,Beijing 100049,China;Jiaxing Kemin Electronic Equipment Technology Co.,LTD,Jiaxing 314006,China)

机构地区：[1]中国科学院微电子研究所仪器设备研发中心,北京100029 [2]中国科学院大学,北京100049 [3]嘉兴科民电子设备技术有限公司,嘉兴314006

出　　处：《真空科学与技术学报》

年　　份：2020

卷　　号：40

期　　号：11

起止页码：1096-1102

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2017、CAS、CSCD、CSCD_E2019_2020、EI、JST、SCOPUS、核心刊

摘　　要：运用模块化的设计构想,将等离子体增强原子层沉积工艺单元、热型原子层沉积工艺单元,直流磁控溅射单元和射频磁控溅射工艺单元进行高度优化集成,研制了集束型多层纳米薄膜沉积设备。设备创新采用真空旋转传输平台,替代了传统集成设备的机械手结构,实现了样品在高真空(5×10^-5 Pa)中传输,而且传输速度快(2~3 s),有效地减少污染,保证样品表面物性的稳定。设备可在全真空的环境下,实现多层纳米薄膜的制备,同时可以对薄膜生长实现原子层精度的控制。设备的磁控溅射工艺平台可以安装金属掩膜板,直接制备图形薄膜。另外设备具有非常灵活的扩展性,针对薄膜工艺需求的不同,可以集成其他的薄膜制备工艺单元。

关 键 词：原子层沉积 磁控溅射 薄膜制备  集束型设备  

分 类 号：TN305.8]