期刊文章详细信息
基于双显微视觉的光刻版位姿定位算法
Positioning Algorithm of Lithographic Mask Posture Based on Binocular Micro-vision
文献类型:期刊文章
LüHong-yang;CHEN Li-guo;ZHONG Ding-yuan;XUE Li-wei(Robotics & Microsystem Center, School of Mechanical and Electrical Engineering, Soochow University, Suzhou 215021, China)
机构地区:[1]苏州大学机电工程学院机器人与微系统研究中心,苏州215021
基 金:江苏省高校自然科学研究项目(17KJA460008)。
年 份:2020
卷 号:20
期 号:32
起止页码:13295-13301
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2017、RCCSE、ZGKJHX、核心刊
摘 要:光刻版工件移动位姿的精确定位及调整是完成其视觉对位的关键。针对光刻版工件跨尺度级高精度对位的难点,搭建了双显微视觉对位系统,通过双显微视觉的局部位姿检测,解决了工件尺寸与定位精度之间的矛盾。具体方法为:首先采用双显微视觉获取工件两端局部图像;接着提出改进Canny算法并基于多项式插值的边缘细分完成亚像素级边缘轮廓提取;然后基于RANSAC算法拟合边缘轮廓,获得左右相机图像中“Mark”标志中心点位置坐标及偏转角度;最后通过推导局部位姿间数学关系完成光刻版工件的精确位姿定位。实验结果表明:所设计的视觉算法对于0.5 mm平行线的距离检测精度达1.93μm,角度提取精度达0.018°;对于光刻版的移动位姿的定位精度达0.64μm,能满足视觉对位过程中高精度的定位需求。
关 键 词:视觉对位 亚像素边缘检测 RANSAC算法 位姿检测
分 类 号:TP391.41]
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