文献类型：期刊文章

作　　者：黄燕华[1] 张子启[2] 陈松岩[2] 张小英[3]

HUANG Yan-hua;ZHANG Zi-qi;CHEN Song-yan;ZHANG Xiao-ying(Chengyi University College,Jimei University,Xiamen 361021,China;Fujian Provincial Key Laboratory of Semiconductors and Applications,Collaborative Innovation,Center for Optoelectronic Semiconductors and Efficient Devices,Department of Physics,Xiamen University,Xiamen 361005,China;School of Opto-electronic and Communication Engineering,Fujian Provincial Key Laboratory of Optoelectronic Technology and Devices,Xiamen University of Technology,Xiamen 361024,China)

机构地区：[1]集美大学诚毅学院,福建厦门361021 [2]厦门大学物理系半导体光电材料及其高效转换器件协同创新中心,福建厦门361005 [3]厦门理工学院光电与通信工程学院,福建省光电技术与器件重点实验室,福建厦门361024

出　　处：《光电子．激光》

基　　金：国家自然科学基金(61534005);福建省中青年教师教育科研项目(JAT191150);江西省自然科学基金(20192ACBL20048);福建省教育厅科技计划(JT180432)资助项目。

年　　份：2020

卷　　号：31

期　　号：9

起止页码：987-993

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2017、CAS、CSCD、CSCD2019_2020、EI、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、核心刊

摘　　要：本文采用两步Ag/Cu双原子金属辅助化学腐蚀(MACE)法,在25℃和50℃单晶硅表面制备纳米陷光结构。实验探讨了刻蚀时间和Ag/Cu原子的摩尔比对制备的黑硅表面结构形貌和反射率的影响,实验得到Ag/Cu双原子MACE法制备的的黑硅比Ag单原子和Cu单原子MACE法制备的黑硅具有更好的表面抗反射。这是由于Ag/Cu双原子的协同催化腐蚀,使得黑硅表面具有较为均匀分布的横向和竖向共存的复合孔洞结构。研究结果表明,纵横交错的复合孔洞结构具有良好的陷光效果,当Ag/Cu原子摩尔比为1∶5,腐蚀时间为10 min时,黑硅表面的反射率达到最低,为4%以下。而对于重掺硅衬底,Ag/Cu双原子辅助腐蚀得到的黑硅表面孔洞为均匀规整的倒金字塔结构,其反射率达到2%以下。

关 键 词：金属辅助化学腐蚀  银铜催化  黑硅  纳米结构  表面减反  

分 类 号：O649]