文献类型：期刊文章

作　　者：王朝勇[1,2] 李伟[1,2] 王凯宏[1] 李宗泽[1] 刘志清[1,2] 余晨生[1] 王新练[1] 王小妮[3] 吴昊[1] 马培芳[4]

WANG Zhao-yong;LI Wei;WANG Kai-hong;LI Zong-ze;LIU Zhi-qing;YU Chen-sheng;WANG Xin-lian;WANG Xiao-ni;WU Hao;MA Pei-fang(Henan Provincial Engineering Laboratory of Building-Photovoltaics,Pingdingshan 467036,China;Institute of Sciences of Henan University of Urban Construction,Pingdingshan 467036,China;School of Physical Engineering and Laboratory of Material Physics,Zhengzhou University,Zhengzhou 450052,China;Pingding Shan Institute of Agricultural Sciences,Pingdingshan 467036,China)

机构地区：[1]河南城建学院数理学院,河南平顶山467046 [2]建筑光伏一体化技术河南省工程实验室,河南平顶山467046 [3]郑州大学物理工程学院,河南郑州450052 [4]平顶山市农业科学院,河南平顶山467001

出　　处：《真空》

基　　金：河南省科技攻关项目(172102210106,152102210038);平顶山市科技合作项目(2017009(9.5));河南城建学院2018年青年骨干教师项目。

年　　份：2020

卷　　号：57

期　　号：5

起止页码：19-23

语　　种：中文

收录情况：CAS、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：利用直流磁控溅射技术(DCMS)制备锐钛矿TiO2薄膜,研究了工艺参数中的衬底温度、压强和溅射功率对TiO2薄膜的沉积速率的影响,利用场发射扫描电镜(FESEM)、X射线衍射仪(XRD)和椭圆偏振光测试仪表征了样品的表面形貌、结构和膜厚,实验结果表明:利用DMS制备薄膜为单一的的锐钛矿结构,表面组成颗粒均匀。随着沉积温度的增加,薄膜的沉积速率从100℃的2.16nm/min增加至400℃的4.03nm/min;压强增加,薄膜的沉积速率降低,0.75Pa、1.5Pa和3.0Pa条件下的沉积速率分别为4.48nm/min、3.18nm/min和2.42nm/min;溅射功率增加,沉积速率提高,100W、295W和443W对应的沉积速率分别为2.95nm/min、3.18nm/min和7.50nm/min。最后用TFC膜系设计软件在玻璃基底上设计了双层TiO2薄膜,利用设计结果制备了薄膜,实验值和理论设计结果非常吻合。

关 键 词：磁控溅射 锐钛矿TIO2 溅射速率  椭偏法

分 类 号：O469] TB43]