文献类型：期刊文章

作　　者：王丹杨[1] 谢娜[2] 陆磊[1] 马晨育[1] 李旋[1]

WANG Danyang;XIE Na;LU Lei;MA Chenyu;LI Xuan(Department of Prosthodontics,School of Stomatology,Xi’an Medical University,Xi’an 710021,China;Department of Oral Medicine,School of Stomatology,Xi’an Medical University)

机构地区：[1]西安医学院口腔医学院口腔修复学教研室,西安710021 [2]西安医学院口腔医学院口腔内科学教研室

出　　处：《山西医科大学学报》

基　　金：国家自然科学基金青年基金资助项目(81701014);陕西省自然科学基础研究计划面上项目(2017JM8038);西安医学院校级配套基金项目(2018PT29)。

年　　份：2020

卷　　号：51

期　　号：6

起止页码：572-576

语　　种：中文

收录情况：CAS、JST、RCCSE、ZGKJHX、普通刊

摘　　要：目的研究氦气源低温大气压等离子体(non-thermal atmospheric pressure plasma,NTAPP)射流处理对牙本质接触角及黏接强度的影响。方法将10颗离体牙制备成30片1.5 mm厚的牙本质片,打磨清洗后NTAPP射流分别处理0(对照组),5,10,15,20 s,测量牙本质接触角。30颗离体牙去除牙合面牙釉质,暴露的牙本质打磨清洗后酸蚀15 s,NTAPP射流分别处理0(对照组),5,10,15,20 s,常规黏接进行微拉伸测试。对各处理组接触角及黏接强度进行统计分析。结果对照组牙本质接触角均值为75.57°,经NTAPP处理后各组接触角均显著降低(P<0.05),各NTAPP处理组间差异无统计学意义(P>0.05)。NTAPP射流处理0,5,10,15,20 s黏接强度分别为(36.38±3.28) MPa、(39.82±3.57) MPa、(41.85±1.88) MPa、(45.79±4.2) MPa、(33.51±2.59) MPa;与NTAPP处理0 s相比,处理10和15 s即刻牙本质黏接强度显著增加(P<0.05)。结论 NTAPP处理可以显著改善牙本质表面的接触角及即刻牙本质黏接强度,黏接强度的大小与处理时间密切相关。

关 键 词：等离子体  牙本质 接触角 黏接强度

分 类 号：R783[口腔医学类]