登录    注册    忘记密码

期刊文章详细信息

低频PECVD设备沉积的AlOx/SiNx钝化膜的性能研究    

PERFORMANCE RESEARCH OF AlOx/SiNx PASSIVATION FILMS DEPOSITED BY LOW FREQUENCY PECVD

  

文献类型:期刊文章

作  者:赵增超[1] 李明[1] 周小荣[1] 郭艳[1] 黄嘉斌[1]

Zhao Zengchao;Li Ming;Zhou Xiaorong;Guo Yan;Huang Jiabin(Hunan Red Solar Photoelectricity Science and Technology Co.,Ltd.,Changsha 410013,China)

机构地区:[1]湖南红太阳光电科技有限公司,长沙410013

出  处:《太阳能》

基  金:湖南省创新型省份建设专项——湖南省晶体硅太阳能电池工程技术研究中心(2019TP2048)。

年  份:2020

期  号:6

起止页码:55-59

语  种:中文

收录情况:普通刊

摘  要:对低频PECVD设备沉积的应用于PERC太阳电池上的AlOx/SiNx钝化膜的性能进行了研究。通过少子寿命测试发现,低频PECVD设备直接沉积的AlOx/SiNx钝化膜的钝化性能较弱,载流子复合严重;利用傅里叶红外光谱(FTIR)对造成该现象的原因进行了分析,结果发现,一是因为Si-AlOx界面无足够的氧化层,二是因为AlOx膜层内的Al-O四面体结构占比偏小。通过在低频PECVD设备沉积AlOx膜后通入N2O/NH3气体进行等离子体表面处理工艺,抑制了表面的载流子复合,显著改善了AlOx/SiNx钝化膜的钝化性能,使小批量生产的PERC太阳电池的平均转换效率达到了22.48%。

关 键 词:低频PECVD设备  氧化铝  少子寿命 等离子体表面处理  钝化 太阳电池

分 类 号:O472.8]

参考文献:

正在载入数据...

二级参考文献:

正在载入数据...

耦合文献:

正在载入数据...

引证文献:

正在载入数据...

二级引证文献:

正在载入数据...

同被引文献:

正在载入数据...

版权所有©重庆科技学院 重庆维普资讯有限公司 渝B2-20050021-7
 渝公网安备 50019002500408号 违法和不良信息举报中心