期刊文章详细信息
低频PECVD设备沉积的AlOx/SiNx钝化膜的性能研究
PERFORMANCE RESEARCH OF AlOx/SiNx PASSIVATION FILMS DEPOSITED BY LOW FREQUENCY PECVD
文献类型:期刊文章
Zhao Zengchao;Li Ming;Zhou Xiaorong;Guo Yan;Huang Jiabin(Hunan Red Solar Photoelectricity Science and Technology Co.,Ltd.,Changsha 410013,China)
机构地区:[1]湖南红太阳光电科技有限公司,长沙410013
基 金:湖南省创新型省份建设专项——湖南省晶体硅太阳能电池工程技术研究中心(2019TP2048)。
年 份:2020
期 号:6
起止页码:55-59
语 种:中文
收录情况:普通刊
摘 要:对低频PECVD设备沉积的应用于PERC太阳电池上的AlOx/SiNx钝化膜的性能进行了研究。通过少子寿命测试发现,低频PECVD设备直接沉积的AlOx/SiNx钝化膜的钝化性能较弱,载流子复合严重;利用傅里叶红外光谱(FTIR)对造成该现象的原因进行了分析,结果发现,一是因为Si-AlOx界面无足够的氧化层,二是因为AlOx膜层内的Al-O四面体结构占比偏小。通过在低频PECVD设备沉积AlOx膜后通入N2O/NH3气体进行等离子体表面处理工艺,抑制了表面的载流子复合,显著改善了AlOx/SiNx钝化膜的钝化性能,使小批量生产的PERC太阳电池的平均转换效率达到了22.48%。
关 键 词:低频PECVD设备 氧化铝 少子寿命 等离子体表面处理 钝化 太阳电池
分 类 号:O472.8]
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