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期刊文章详细信息

国内外碳化硅陶瓷材料研究与应用进展    

Research and Application Progress of SiC Ceramics:a Review

  

文献类型:期刊文章

作  者:李辰冉[1,2] 谢志鹏[2] 康国兴[3] 安迪[2] 魏红康[1] 赵林[1]

LI Chenran;XIE Zhipeng;KANG Guoxing;AN Di;WEI Hongkang;ZHAO Lin(School of Materials Science and Engineering, Jingdezhen Ceramic Institute, Jingdezhen 333403, China;State Key Lab ofNew Ceramics and Fine Processing, Department of Materials Science and Engineering, Tsinghua University, Beijing 100084, China;Zhuzhou Torch Spark Plug Co., Ltd., Zhuzhou 412000, China)

机构地区:[1]景德镇陶瓷大学材料科学与工程学院,景德镇333403 [2]清华大学材料学院新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,北京100084 [3]株洲湘火炬火花塞有限责任公司,株洲412000

出  处:《硅酸盐通报》

基  金:国家自然科学基金(51672147)。

年  份:2020

卷  号:39

期  号:5

起止页码:1353-1370

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2017、CAS、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘  要:碳化硅陶瓷材料具有良好的耐磨性、导热性、抗氧化性及优异的高温力学性能,被广泛应用于能源环保、化工机械、半导体、国防军工等领域。然而,由于碳化硅为强共价键化合物,且具有低的扩散系数,导致其在制备过程中的主要问题之一是烧结致密化困难。因此,大量研究工作通过烧结技术的研究与烧结助剂的选择和优化等手段促进碳化硅致密化过程,降低烧结温度,细化晶粒,改善碳化硅陶瓷材料的各项性能。本文基于对碳化硅材料烧结行为、显微结构以及力学性能的认识,综述了碳化硅烧结工艺的发展及烧结助剂的选择标准,同时分析和介绍了碳化硅陶瓷材料在传统工业与现代科技领域的应用现状。

关 键 词:碳化硅陶瓷 烧结技术  烧结助剂 碳化硅应用  

分 类 号:TQ174]

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同被引文献:

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