文献类型：期刊文章

作　　者：李辰冉[1] 谢志鹏[1,2] 赵林[1]

LI Chenran;XIE Zhipeng;ZHAO Lin(School of Materials Science and Engineering,Jingdezhen Ceramic Institute,Jingdezhen 333403,Jiangxi,China;State Key Lab of New Ceramics and Fine Processing,Department of Materials Science and Engineering,Tsinghua University,Beijing 100084,China)

机构地区：[1]景德镇陶瓷大学材料科学与工程学院,江西景德镇333403 [2]清华大学材料学院新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室,北京100084

出　　处：《陶瓷学报》

基　　金：国家自然科事基金(51427802,51672147,51662017)。

年　　份：2020

卷　　号：41

期　　号：2

起止页码：137-149

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2017、CAS、JST、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：碳化硅陶瓷材料具有优异的高温力学性能、热学性能以及化学稳定性,在化工、冶金、机械、能源、环保等工业领域以及半导体、光电子等现代科技领域得到了广泛应用。本文从SiC晶体结构特征及粉体烧结特性入手,详细论述了碳化硅陶瓷的重要烧结工艺的研究进展,既包括主流的反应烧结、无压烧结、热压烧结、热等静压烧结,又包括最新发展起来的放电等离子烧结和振荡压力烧结技术,并着重介绍了各项烧结技术的烧结特性、烧结机理、材料与产品性能等方面,最后对碳化硅陶瓷材料的发展进行了展望。

关 键 词：碳化硅陶瓷 烧结技术  烧结机理  产品性能  

分 类 号：TQ174.75]