文献类型：期刊文章

作　　者：苻娇[1] 任子君[1]

机构地区：[1]西安交通大学分析测试共享中心

出　　处：《电子显微学报》

年　　份：2020

卷　　号：39

期　　号：1

起止页码：34-34

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2017、CAS、CSCD、CSCD_E2019_2020、INSPEC、JST、RCCSE、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：由于金刚石具有宽频带隙能、高击穿率等优点,且适用于高温/高氧化、高辐射等环境,具有替代压力传感器中硅基材料的潜力。然而,传统的多晶或纳米晶金刚石的晶间存在一定的杂质和应力,电导率很低。因此,本课题提出以离子注入结合化学气相沉积的方式,制备单晶金刚石,并采用ICP刻蚀与电化学刻蚀对单晶金刚石进行加工。拍摄环境为常温/高真空,借助扫描电子显微镜对制备的单晶金刚石形貌进行拍摄。图中薄膜状的条带为制备的单晶金刚石,其上的亮色条纹是沉积的金属钨。其余部分为金刚石基板腐蚀后的形貌。

关 键 词：电化学刻蚀 单晶金刚石 化学气相沉积 扫描电子显微镜 拍摄环境 压力传感器  硅基材料 薄膜状  

分 类 号：TQ163-19]