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期刊文章详细信息

高性能硅基微流道优化方法研究  ( EI收录)  

Study of Optimization Method on Silicon-Based Microchannel

  

文献类型:期刊文章

作  者:钱吉裕[1] 魏涛[1] 王韬[2] 李秋燕[2] 吴传贵[2]

QIAN Ji-yu;WEI Tao;WANG Tao;LI Qiu-yan;WU Chuan-gui(Nanjing Institute of Electronic Technology,Nanjing 210039;School of Electronic Science and Engineering(National Exemplary School of Microelectronics),University of Electronic Science and Technology of China,Chengdu 611731)

机构地区:[1]南京电子技术研究所,南京210039 [2]电子科技大学电子科学与工程学院(示范性微电子学院),成都611731

出  处:《电子科技大学学报》

基  金:装发-中国电科联合基金(6141B08100203)

年  份:2020

卷  号:49

期  号:1

起止页码:92-97

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2017、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2019_2020、EI、IC、INSPEC、JST、MR、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、ZMATH、核心刊

摘  要:采用激光刻蚀工艺制备了硅基微流道散热器,通过半导体微细加工技术将薄膜温度传感器集成到微流道内部。通过实验测试了不同流量以及不同加热功率下,激光刻蚀微流道和深反应离子刻蚀微流道的散热能力。结果表明,微流道内壁的粗糙表面能降低热阻,在相同条件下比深反应离子刻蚀微流道小一半。集成在微流道散热器内部的薄膜温度传感器能准确、实时捕获微流道内的温度变化,真实地反映了微流道的温度分布特性,为优化微流道设计提供了新的技术途径。

关 键 词:微流道散热  热点  激光刻蚀 温度均匀性 热阻

分 类 号:TN605]

参考文献:

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同被引文献:

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