期刊文章详细信息
Ge基底LaF3-ZnS-Ge高耐用中波红外增透膜 ( EI收录)
LaF3-ZnS-Ge high-durability MWIR antireflective film on Ge substrate
文献类型:期刊文章
Cheng Haijuan;Yu Xiaohui;Peng Lang;Pu Qunyan;Cai Yi;Li Maozhong;Yang Weisheng;Bai Yuzhuo;Zhao Jinsong;Wang Lingxue(School of Optics and Photonics,Beijing Institute of Technology,Beijing 100081,China;North Night-Vision Science&Technology Group Co.,Ltd,Kunming 650221,China)
机构地区:[1]北京理工大学光电学院,北京100081 [2]北方夜视科技集团有限公司,云南昆明650221
基 金:国家自然科学基金(61471044)
年 份:2019
卷 号:48
期 号:11
起止页码:251-257
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2017、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2019_2020、EI、IC、INSPEC、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:研究了LaF3材料的蒸发特性及其在2.5~12μm红外波段的光学常数,并将LaF3晶体作为低折射率材料在Ge基底上制备了中波红外3.7~4.8μm波段高耐用性增透膜。SEM照片显示,基于LaF3材料的高耐用性增透膜表面纳米晶粒分布均匀致密,表面光洁度高。利用傅里叶变换红外光谱仪测试了其光谱特性,在3.7~4.8μm波段,峰值透射率达到99.4%,双面镀膜平均透射率由47.7%提高到98.8%。牢固度、耐久性等环境试验结果显示,膜层在保持高的光学性能的同时还可以在较为严苛的恶劣环境中使用。
关 键 词:LAF3 高耐用性 增透膜 中波红外
分 类 号:O439]
参考文献:
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引证文献:
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同被引文献:
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