文献类型：期刊文章

作　　者：刘晓晨[1,2] 葛新岗[1,2] 李义锋[1,2] 姜龙[1,2] 安晓明[1,2] 郭辉[1,2]

LIU Xiao-chen;GE Xin-gang;LI Yi-feng;JIANG Long;AN Xiao-ming;GUO Hui(Hebei Institute of Laser,Shijiazhuang 050081,China;Hebei Plasma Diamond Technology Co.,Ltd.,Shijiazhuang 050081,China)

机构地区：[1]河北省激光研究所,石家庄050081 [2]河北普莱斯曼金刚石科技有限公司,石家庄050081

出　　处：《人工晶体学报》

基　　金：河北省高新区科技计划项目(18121015C)

年　　份：2019

卷　　号：48

期　　号：11

起止页码：1992-1998

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2017、CAS、EI、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：根据小角散射原位加载测试的应用需求,采用自行研制的2. 45 GHz/6 k W穹顶式微波等离子体化学气相沉积(MPCVD)装置进行高质量单晶金刚石窗口的制备,对晶托结构进行改进,并系统研究了沉积温度对单晶金刚石生长速率、表面形貌、结晶质量、X射线透过率的影响。实验结果表明,新型晶托结构使籽晶表面温度分布均匀,有利于提升单晶金刚石结晶质量;沉积温度1000℃下制备单晶金刚石样品表面形貌、拉曼曲线半峰宽、摇摆曲线半峰宽、X射线透过率均优于其它温度的样品,并最终在该温度下制备出Φ7×0. 5 mm2的单晶金刚石窗口。经测试,样品生长速率可达11. 6μm/h,厚度偏差小于±2%,其Raman半峰宽为2. 08 cm-1,XRD摇摆曲线半峰宽为28arcsec,PL谱中未出现与氮相关的杂质峰,X射线透过率超过80%且窗口耐压达到27 MPa,所有性能均满足小角散射原位加载测试的应用需求。

关 键 词：小角散射 MPCVD 单晶金刚石

分 类 号：TQ163]