期刊文章详细信息
脉冲激光沉积法制备低阻掺镓氧化锌薄膜及其光电性能 ( EI收录)
Preparation of Low-Resistivity GZO Thin Films Using Pulsed Laser Deposition and Investigation of Optoelectronic Properties
文献类型:期刊文章
Mo Guankong;Liu Jiahui;Zou Zhuoliang;Tang Zimei;Liu Yulun;He Huan;Fu Yuechun;Shen Xiaoming(School of Resources,Environment and Materials,Guangxi University,Guangxi Key Laboratory of Processing for Non-Ferrous Metals and Featured Materials,Nanning,Guangxi 530004,China)
机构地区:[1]广西大学资源环境与材料学院广西有色金属及特色材料加工重点实验室
基 金:国家自然科学基金(61474030);广西科技开发项目基金(1598008-15);南宁市科技开发项目基金(20151268)
年 份:2019
卷 号:46
期 号:10
起止页码:204-210
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2017、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2019_2020、EI、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:采用脉冲激光沉积法在玻璃衬底上沉积掺镓氧化锌(GZO)透明导电薄膜,使用X射线衍射仪、紫外可见分光光度仪、原子力电子显微镜和霍尔测试系统,研究了氧气分压对GZO薄膜晶体结构、微观形貌以及光电性能的影响。结果表明:所有的样品都表现出六方纤锌矿结构,并具有高度的c轴择优取向生长;薄膜表面致密光滑,晶粒尺寸随氧气分压增大而先增大后减小,当氧气分压为0.5 Pa时,薄膜的结晶性最佳;沉积的GZO薄膜在可见光区域表现出高于91.97%的透过率,且禁带宽度在3.492~3.576 eV之间;随着氧气分压增大,载流子浓度与霍尔迁移率先增加后减小,电阻率先减小后增大,当氧气分压为0.5 Pa时,GZO薄膜的电阻率最低,为2.95×10^-4Ω·cm。
关 键 词:薄膜 脉冲激光沉积法 氧气分压 掺镓氧化锌薄膜 光学性质 电学性能
分 类 号:O484]
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