期刊文章详细信息
新型变密度卤化物/MCP反射式X射线敏感薄膜的研究 ( EI收录)
Study on New MCP Reflection X-ray Sensitive Film of Variable Density Halide
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]长春理工大学光电子技术研究所,吉林长春130022
年 份:2002
卷 号:23
期 号:5
起止页码:513-517
语 种:中文
收录情况:AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、INSPEC、JST、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:在MCP输入端通道内壁制作了反射式X射线敏感膜层 ,提高了MCP对能量 35~ 5 0keVX射线的探测能力。实验结果表明 :变密度结构的CsI/MCP中膜层结构较密实时 ,其输出响应可提高 5~ 6倍 ,较无膜MCP提高 1~ 2个数量级 ,和CsBr、KBr相比较 ,以CsI的响应特性为最佳 ;膜层材料、结构、工艺和X射线能量等是影响探测能力的主要因素。
关 键 词:MCP 反射式X射线敏感薄膜 变密度 卤化物 X射线光阴极 微通道板 工作原理 X射线影像增强器
分 类 号:TN144.1]
参考文献:
正在载入数据...
二级参考文献:
正在载入数据...
耦合文献:
正在载入数据...
引证文献:
正在载入数据...
二级引证文献:
正在载入数据...
同被引文献:
正在载入数据...