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期刊文章详细信息

新型变密度卤化物/MCP反射式X射线敏感薄膜的研究  ( EI收录)  

Study on New MCP Reflection X-ray Sensitive Film of Variable Density Halide

  

文献类型:期刊文章

作  者:田景全[1] 姜德龙[1] 孙秀平[1] 富丽晨[1] 但唐仁[1] 李野[1] 卢耀华[1] 端木庆铎[1]

机构地区:[1]长春理工大学光电子技术研究所,吉林长春130022

出  处:《发光学报》

年  份:2002

卷  号:23

期  号:5

起止页码:513-517

语  种:中文

收录情况:AJ、BDHX、BDHX2000、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2011_2012、EI、INSPEC、JST、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:在MCP输入端通道内壁制作了反射式X射线敏感膜层 ,提高了MCP对能量 35~ 5 0keVX射线的探测能力。实验结果表明 :变密度结构的CsI/MCP中膜层结构较密实时 ,其输出响应可提高 5~ 6倍 ,较无膜MCP提高 1~ 2个数量级 ,和CsBr、KBr相比较 ,以CsI的响应特性为最佳 ;膜层材料、结构、工艺和X射线能量等是影响探测能力的主要因素。

关 键 词:MCP 反射式X射线敏感薄膜  变密度  卤化物 X射线光阴极  微通道板 工作原理  X射线影像增强器  

分 类 号:TN144.1]

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同被引文献:

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