文献类型：期刊文章

作　　者：张卫民[1] 何文[2] 吴拥军[3]

Zhang Weimin;He Wen;Wu Yongjun(Tianfang Pharmaceutical Co.,Ltd.,Henan Zhumadian 463000;School of Chemistry and Molecular Engineering,Zhengzhou University,Henan 450001;School of Public Health,Zhengzhou University,Henan Province,Zhengzhou 450001)

机构地区：[1]天方药业有限公司,河南驻马店463000 [2]郑州大学化学与分子工程学院,河南郑州450001 [3]郑州大学公共卫生学院,河南郑州450001

出　　处：《云南化工》

年　　份：2019

卷　　号：46

期　　号：8

起止页码：84-86

语　　种：中文

收录情况：CAS、IC、普通刊

摘　　要：采用近红外漫反射光谱分析技术对复方阿司匹林/双嘧达莫药物的有效成分进行测定,结合偏最小二乘(PLS)法分别建立了复方药物有效成分双嘧达莫及阿司匹林的相关模型,结果显示,复方阿司匹林/双嘧达莫中双嘧达莫PLS模型的相关系数R为0.99921,交互验证均方根误差(RMSECV)是0.00170,预测集均方根误差(RMSEP)是0.00291;复方中阿司匹林PLS模型的R为0.99517,RMSECV为0.000810,RMSEP为0.000831。由此表明,所建立的模型预测性能良好,均在误差范围内,说明方法准确可靠,可以用于实际生产中的在线控制。

关 键 词：近红外漫反射光谱 偏最小二乘法 复方阿司匹林/双嘧达莫  

分 类 号：R927.2[药学类]