文献类型：期刊文章

作　　者：刘致远[1] 陈磊[1] 朱文华[1] 丁煜[1] 马云[2] 郑东晖[1]

Liu Zhiyuan;Chen Lei;Zhu Wenhua;Ding Yu;Ma Yun;Zheng Donghui(School of Electronic and Optical Engineering, Nanjing University of Science and Technology, Nanjing, Jiangsu 210094, China;Advanced Launch Corporative Innovation Center, Nanjing University of Science and Technology, Nanjing, Jiangsu 210094,China)

机构地区：[1]南京理工大学电子工程与光电技术学院,江苏南京210094 [2]南京理工大学先进发射协同创新中心,江苏南京210094

出　　处：《光电工程》

基　　金：国家自然科学基金资助项目(U1731115)~~

年　　份：2019

卷　　号：46

期　　号：8

起止页码：38-46

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2017、CAS、CSCD、CSCD2019_2020、IC、JST、PROQUEST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：为了快速获取不平整度达数微米量级的光学表面面形分布,提出一种基于变倾角移相的斜入射动态干涉仪方案。基于迈克耳逊干涉仪主光路系统,采用2×2点光源阵列,通过精确控制各点光源在干涉腔的入射倾角,引入等间隔移相,结合透镜阵列实现空间分光,在单个CCD上同时采集四幅移相干涉图,实现动态测量。在68°斜入射角下测量了口径35 mm硅片的平整度,均方根(RMS)值为1.631μm,峰谷(PV)值为9.082μm。实验结果表明,将变倾角同步移相技术引入斜入射干涉系统,可以克服环境震动的干扰,在保证高精度的前提下拓宽了可见光干涉仪的测量范围。

关 键 词：干涉测量  斜入射 动态干涉仪  表面平整度  

分 类 号：O436]