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期刊文章详细信息

N2流量对脉冲溅射CrNx薄膜结构和耐蚀性的影响  ( EI收录)  

Effect of N_2 Flow Rate on Microstructure and Corrosion Resistance of Pulse Sputtering CrN_x Thin Films

  

文献类型:期刊文章

作  者:鲁媛媛[1] 丁旭[1] 罗甲文[1] 吴坤尧[1]

LU Yuan-yuan;DING Xu;LUO Jia-wen;WU Kun-yao(Advanced Materials Institute, School of Materials Engineering, Xi'an Aeronautical University, Xi'an 710077, China)

机构地区:[1]西安航空学院材料工程学院,新材料研究所,西安710077

出  处:《人工晶体学报》

基  金:凝固技术国家重点实验室开放课题(SKLSP201858).

年  份:2018

卷  号:47

期  号:12

起止页码:2599-2603

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2017、CAS、CSCD、CSCD2017_2018、EI、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:采用脉冲磁控溅射法在不同氮气流量下制备出CrN_x薄膜,并利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)和电化学工作站对薄膜进行了系统分析,以研究氮气流量对其微观结构和耐蚀性的影响规律。结果表明:氮气流量较低时,薄膜的物相为Cr_2N^+CrN的复合相,当氮气流量增加至150sccm,物相转变为CrN单相;表面和截面形貌照片显示,随着氮气流量的增多,薄膜的表面粗糙度逐渐减小、致密度也得到改善。物相的变化和致密度的改善,使得腐蚀电流密度随氮气流量的增加而降低,即腐蚀速度逐渐减小,当氮气流量为150sccm时薄膜表现出最好的耐蚀性。

关 键 词:脉冲溅射  CrNx  薄膜  氮气流量  微观结构 耐蚀性

分 类 号:TG17]

参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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