期刊文章详细信息
N2流量对脉冲溅射CrNx薄膜结构和耐蚀性的影响 ( EI收录)
Effect of N_2 Flow Rate on Microstructure and Corrosion Resistance of Pulse Sputtering CrN_x Thin Films
文献类型:期刊文章
LU Yuan-yuan;DING Xu;LUO Jia-wen;WU Kun-yao(Advanced Materials Institute, School of Materials Engineering, Xi'an Aeronautical University, Xi'an 710077, China)
机构地区:[1]西安航空学院材料工程学院,新材料研究所,西安710077
基 金:凝固技术国家重点实验室开放课题(SKLSP201858).
年 份:2018
卷 号:47
期 号:12
起止页码:2599-2603
语 种:中文
收录情况:BDHX、BDHX2017、CAS、CSCD、CSCD2017_2018、EI、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊
摘 要:采用脉冲磁控溅射法在不同氮气流量下制备出CrN_x薄膜,并利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、能谱仪(EDS)和电化学工作站对薄膜进行了系统分析,以研究氮气流量对其微观结构和耐蚀性的影响规律。结果表明:氮气流量较低时,薄膜的物相为Cr_2N^+CrN的复合相,当氮气流量增加至150sccm,物相转变为CrN单相;表面和截面形貌照片显示,随着氮气流量的增多,薄膜的表面粗糙度逐渐减小、致密度也得到改善。物相的变化和致密度的改善,使得腐蚀电流密度随氮气流量的增加而降低,即腐蚀速度逐渐减小,当氮气流量为150sccm时薄膜表现出最好的耐蚀性。
关 键 词:脉冲溅射 CrNx 薄膜 氮气流量 微观结构 耐蚀性
分 类 号:TG17]
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