文献类型：期刊文章

作　　者：孔腾飞[1] 梁朋辉[1] 刘宏德[1,2] 郑大怀[2] 刘士国[1] 陈绍林[2] 孔勇发[1,2] 许京军[1,2]

KONG Teng-fei;LIANG Peng-hui;LIU Hong-de;ZHENG Da-huai;LIU Shi-guo;CHEN Shao-lin;KONG Yong-fa;XU Jing-jun(School of Physical,Nankai University,Tianjin 300071,China;MOE Key Laboratory of Weak-light Nonlinear Photonics,TEDA Institute of Applied Physics,Nankai University,Tianjin 300457,China)

机构地区：[1]南开大学物理科学学院,天津300071 [2]南开大学泰达应用物理研究院,弱光非线性光子学教育部重点实验室,天津300457

出　　处：《人工晶体学报》

基　　金：国家自然科学基金(11674179,61795116);中国国际科技合作项目(2013DFG52660)。

年　　份：2018

卷　　号：47

期　　号：8

起止页码：1507-1511

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2017、CAS、CSCD、CSCD2017_2018、EI、JST、RCCSE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：以三元同成分为基础配料,生长了掺杂浓度为6.5mol%、7.5mol%的掺镁铌酸锂晶体,并与传统的掺镁5.0mol%(Li/Nb=48.38/51.62)铌酸锂晶体作对比。光斑畸变法实验表明所生长的掺镁晶体的抗光损伤能力均达到5×105W/cm2,与掺镁5.0mol%同成分铌酸锂晶体相近。全息法测得晶体最大折射率变化分别为4.39×10-6、4.61×10-6,而掺镁5.0mol%晶体为5.62×10-6。晶体的红外光谱和紫外-可见吸收谱显示,所生长的掺镁6.5mol%、7.5mol%晶体均已超过掺杂阈值。综上可知,采用三元同成分配比是获得高质量晶体的有效途径。

关 键 词：三元同成分  掺镁铌酸锂晶体  抗光损伤  光学均匀性

分 类 号：O734.1]