文献类型：期刊文章

作　　者：王伟[1,2] 刘振邦[2] 包宇[3] 关怡然[2] 牛利[3] 张国玉[1]

WANG Wei;LIU Zhen-Bang;BAO Yu;GUAN Yi-Ran;NIU Li;ZHANG Guo-Yu(The School of Photo-Electronic Engineering,Changchun University of Science and Technology,Changchun 130022,China;Changchun Institute of Applied Chemistry,Chinese Academy of Sciences,Changchun 130022,China;Center for Advanced Analyticl Science,C/O School of Chemistry and Chemical Engineering,Guangzhou University,Guangzhou 510006,China)

机构地区：[1]长春理工大学光电工程学院,长春130022 [2]中国科学院长春应用化学研究所,长春130022 [3]广州大学化学化工学院分析科学技术研究中心,广州510006

出　　处：《分析化学》

基　　金：国家自然科学基金项目(Nos.21527806;21405147)资助~~

年　　份：2018

卷　　号：46

期　　号：3

起止页码：342-347

语　　种：中文

收录情况：AJ、BDHX、BDHX2017、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2017_2018、EBSCO、EI、IC、JST、RCCSE、RSC、SCIE、SCOPUS、UPD、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：扫描电化学显微镜(SECM)使用超微电极作为探针,由于发生在探针电极上的氧化还原反应是一个扩散过程,探针电极在快速移动过程中会对扩散过程产生影响,导致SECM图像变得不清晰。本研究采用Lo G算法与NEDI插值算法相结合的图像处理技术对获得的SECM图像进行处理,Lo G算法可以提高SECM图像的清晰度,但会导致图像中部分边缘信息丢失,利用基于边缘导向插值的NEDI算法对后续图像进行处理,可以很好地解决这个问题。采用离子溅射方法制备了金叉指电极和金点阵电极两种基底,对金叉指电极基底、金点阵电极基底和印有指纹的ITO基底进行了SECM成像,通过对3种基底的SECM原始图像、Lo G变换后的图像和NEDI插值后的图像进行比较分析,表明Lo G算法与NEDI插值算法结合在一起的图像处理技术可以明显提高SECM图像的清晰度和分辨率。

关 键 词：扫描电化学显微镜 图像处理 LOG算法 NEDI插值  

分 类 号：TH742] TP391.41[仪器类]