文献类型：期刊文章

作　　者：刘晓晨[1,2] 郭辉[1,2] 安晓明[1,2] 李义锋[1,2] 姜龙[1,2]

LIU Xiao-chen;GUO Hui;AN Xiao-ming;LI Yi-feng;JIANG Long(Hebei Institute of Laser, Shijiazhuang 050081, China;Hebei Plasma Diamond Technology, Shijiazhuang 050081, China)

机构地区：[1]河北省激光研究所,石家庄050081 [2]河北普莱斯曼金刚石科技有限公司,石家庄050081

出　　处：《人工晶体学报》

年　　份：2017

卷　　号：46

期　　号：10

起止页码：1897-1901

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2014、CSCD、CSCD2017_2018、核心刊

摘　　要：本文介绍了制备单晶金刚石的主要方法并对其进行了对比,从籽晶选择、预处理和生长工艺几个方面综述了微波等离子体化学气相沉积法制备金刚石单晶的研究进展,并简单介绍了目前国内外在单晶金刚石制备上的进展,最后对CVD金刚石单晶在电子领域的应用进行了展望。

关 键 词：微波等离子体 化学气相沉积(CVD)  金刚石单晶

分 类 号：O78]