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期刊文章详细信息

纳米二氧化硅的制备及表征    

Preparation and Characterization of Nanometer Silica

  

文献类型:期刊文章

作  者:沈新璋[1] 金名惠[1] 孟厦兰[1]

机构地区:[1]华中科技大学化学系

出  处:《涂料工业》

基  金:华中科技大学研究生科技创新基金资助项目 (YCJ- 0 2 - 0 0 8)

年  份:2002

卷  号:32

期  号:9

起止页码:15-17

语  种:中文

收录情况:CAS、CSCD、CSCD2011_2012、JST、RCCSE、ZGKJHX、普通刊

摘  要:通过原硅酸四乙酯的水解和缩合 ,并加入适量的表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵 (CTAB) ,制得了纳米二氧化硅 (平均粒径 6 0~ 10 0nm)。讨论了SiO2 的形成机理和CTAB的作用机理 ,并采用FTIR、XRD和TEM表征了纳米二氧化硅。

关 键 词:制备  表征  纳米二氧化硅 原硅酸四乙酯  十六烷基三甲基溴化铵

分 类 号:TQ127.2]

参考文献:

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二级参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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