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期刊文章详细信息

偏压磁控溅射法在柔性衬底上制备ZnO:Al透明导电膜    

ZnO:Al FILMS DEPOSITED ON WATER-COOLED FLEXIBLE SUBSTRATES BY BIAS RF MAGNETRON SPUTTERING

  

文献类型:期刊文章

作  者:杨田林[1] 高绪团[1] 韩盛浩[2]

机构地区:[1]山东理工大学物理系,山东省淄博市255049 [2]山东大学物理与微电子学院,山东省济南市250100

出  处:《曲阜师范大学学报(自然科学版)》

基  金:国家自然基金资助课题 (60 1760 2 1)

年  份:2002

卷  号:28

期  号:4

起止页码:59-63

语  种:中文

收录情况:AJ、CAS、MR、WOS、ZMATH、ZR、普通刊

摘  要:用射频偏压磁控溅射法 ,在水冷透明聚脂胶片上制备出了附着力强的ZnO :Al (AluminiumdopedZincOxide ,AZO)透明导电膜 ,膜的最小电阻率为 1.11× 10 -3 Ωcm ,薄膜的透过率高于 85 % .薄膜为多晶纤锌矿结构 ,垂直于衬底的C轴具有 [0 0 2 ]方向的择优取向 .重点探讨了薄膜的结构、光电性质与衬底所加负偏压的关系 .

关 键 词:偏压磁控溅射法  柔性衬底 制备  ZnO:A1透明导电膜  光电性质 AZO薄膜 负偏压  

分 类 号:TN304.055] TN305.92

参考文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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