文献类型：期刊文章

作　　者：张峰[1] 潘守甫[1] 张学军[2] 张忠玉[2] 郑立功[2] 程灏波[2] 牛海燕[2]

机构地区：[1]吉林大学原子分子物理研究所,吉林长春130023 [2]长春光学精密机械与物理研究所光学技术研究室,吉林长春130022

出　　处：《功能材料》

基　　金：国家自然科学基金资助项目 (60 1 0 80 0 3)

年　　份：2002

卷　　号：33

期　　号：5

起止页码：490-491

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2000、CAS、CSCD、CSCD2011_2012、EI(收录号：2003047328436)、IC、JST、RCCSE、RSC、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：磁流变抛光是近十年来新兴的一种先进光学制造技术。首先简要介绍了磁流变抛光的抛光机理。然后对在磁流变抛光中起重要作用的磁流变抛光液的组成、流变性和稳定性进行了研究。在外加磁场强度高于 3 18kA m时 ,磁流变抛光液的剪切应力大于 2 0kPa ,该应力足以完成磁流变抛光。最后给出一个磁流变抛光的实例 ,证明了磁流变抛光液的实用性。实验中磁流变抛光的最大材料去除率约为 0 .2 μm s。

关 键 词：磁流变抛光 磁流变抛光液  剪切应力 抛光区  材料去除率

分 类 号：TH74] TB381[仪器类]