文献类型：期刊文章

作　　者：徐庆岩[1,2] 吴雪梅[1,2] 诸葛兰剑[3,2] 陈学梅[1,2] 吴兆丰[1,2]

机构地区：[1]苏州大学物理科学与技术学院,江苏苏州215006 [2]江苏省薄膜材料重点实验室,江苏苏州215006 [3]苏州大学分析测试中心,江苏苏州215006

出　　处：《微细加工技术》

基　　金：国家自然科学基金资助项目(10575073);江苏省高校自然科学基金资助项目(03KJB140116)

年　　份：2008

期　　号：6

起止页码：16-18

语　　种：中文

收录情况：SCOPUS、普通刊

摘　　要：采用射频磁控溅射方法在导电玻璃和石英衬底上制备了未掺杂和不同Cu掺杂量的ZnO薄膜。XRD显示,适当的Cu掺杂增强了ZnO的(002)衍射峰的强度;用紫外分光光度计测量了样品的透光性,结果显示,随掺杂量的增加,其透光性减弱,但在Cu掺杂量为9.6%时其透光性还在60%以上。用四探针测量了样品的表面电阻率,薄膜的电阻率随Cu掺杂量的增加而增加。

关 键 词：CU掺杂 ZNO薄膜 电光学性质  

分 类 号：TN304.21]