期刊文章详细信息
文献类型:期刊文章
机构地区:[1]中国华晶电子集团公司中央研究所,无锡214061
年 份:1999
卷 号:27
期 号:2
起止页码:46-51
语 种:中文
收录情况:普通刊
摘 要:本文对CMOSVLSI芯片ESD失效现象及其ESD事件发生机理进行了分析,介绍了CMOSVLSIESD保护电路设计技术。使用具有大电流放电性能的MOS器件构成的ESD电路,以及采用周密的版图布局布线技术,可实现良好的ESD保护性能。
关 键 词:ESD保护 薄栅NMOS器件 设计
分 类 号:TN4]
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