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期刊文章详细信息

PET衬底上ITO薄膜的制备及光电性能  ( EI收录)  

Preparation and Photoelectric Properties of ITO Films Deposited on PET Substrate

  

文献类型:期刊文章

作  者:杨坤[1] 胡志强[1] 徐书林[1] 王海权[1] 于洋[1] 刘贵山[1] 姜妍彦[1] 张海涛[2]

机构地区:[1]大连工业大学新能源材料研究所,辽宁大连116034 [2]锦州新世纪石英(集团)有限公司,辽宁锦州121000

出  处:《材料工程》

基  金:国家(863)高技术研究发展计划资助项目(2006AA05Z417);大连市科技平台建设项目(2010-354)

年  份:2014

卷  号:42

期  号:3

起止页码:71-76

语  种:中文

收录情况:BDHX、BDHX2011、CAS、CSA、CSA-PROQEUST、CSCD、CSCD2013_2014、DOAJ、EI(收录号:20141617585926)、IC、JST、RCCSE、SCOPUS、WOS、ZGKJHX、核心刊

摘  要:用脉冲磁控溅射法在柔性衬底聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)上制备了氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜,研究了溅射气压、时间和衬底温度等工艺条件对ITO薄膜光电性能的影响,并采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)对薄膜的物相结构与表面形貌进行了分析。结果表明:薄膜的平均晶粒尺寸随衬底温度的升高而增大;当溅射时间增加时,方块电阻与光透过率均减小;当衬底温度升高时,方块电阻减小,可见光透过率增大。

关 键 词:脉冲磁控溅射  氧化铟锡薄膜 PET

分 类 号:TB383.2[材料类]

参考文献:

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二级参考文献:

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耦合文献:

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引证文献:

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同被引文献:

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