文献类型：期刊文章

作　　者：高健[1,2] 桑田[1,2] 李俊浪[1,2] 王啦[1,2]

Gao Jian;Sang Tian;Li Jun-Lang;Wang La(Department of Photoelectric Information Science and Engineering,School of Science,Jiangnan University,Wuxi 214122,China;Jiangsu Provincial Research Center of Light Industrial Optoelectronic Engineering and Technology,Jiangnan University,Wuxi 214122,China)

机构地区：[1]江南大学理学院光电信息科学与工程系,无锡214122 [2]江南大学,江苏省轻工光电工程技术研究中心,无锡214122

出　　处：《物理学报》

基　　金：国家自然科学基金(批准号：11811530052); 江苏省轻工光电工程技术研究中心(批准号：BM2014402)、江苏省研究生科研创新; 实践创新计划(批准号：SJCX180634)资助的课题

年　　份：2018

卷　　号：67

期　　号：18

起止页码：160-165

语　　种：中文

收录情况：BDHX、BDHX2017、CAS、CSCD、CSCD2017_2018、EI、INSPEC、JST、RCCSE、SCIE、SCOPUS、ZGKJHX、核心刊

摘　　要：构建基底/窄刻槽金属光栅/覆盖层/石墨烯结构,利用金属光栅激发的表面等离子体激元共振和窄光栅刻槽支持的法布里-珀罗共振,在可见光波段实现单层石墨烯的双通道吸收增强,并结合简化模型估算出双吸收通道所在位置.在波长462和768 nm处,石墨烯的光吸收效率分别为35.6%和40.1%,相比石墨烯本征光吸收率的增强均超过15.5倍.进一步研究发现由于短波处吸收增强源于金属光栅的表面等离子体激元共振,其吸收特性受覆盖层厚度、刻槽深度和宽度变化的影响较小;而由于长波处吸收增强源于窄刻槽中的法布里-珀罗共振,因此呈现出良好的角度不敏感吸收特性.

关 键 词：窄刻槽  金属光栅 石墨烯 双通道

分 类 号：O613.71]